离子镀膜技术是指被镀材料形成金属或者非金属等离子体（如Ti离子，N离子），等离子体在偏压电场的作用下，沉积在工件表面上，并可在复杂形状的工件上沉积均匀的膜层。
规格参数
离子镀膜技术是指被镀材料形成金属或者非金属等离子体（如Ti离子，N离子），等离子体在偏压电场的作用下，沉积在工件表面上，并可在复杂形状的工件上沉积均匀的膜层。
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离子镀膜技术是指被镀材料形成金属或者非金属等离子体（如Ti离子，N离子），等离子体在偏压电场的作用下，沉积在工件表面上，并可在复杂形状的工件上沉积均匀的膜层。
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离子镀膜技术是指被镀材料形成金属或者非金属等离子体（如Ti离子，N离子），等离子体在偏压电场的作用下，沉积在工件表面上，并可在复杂形状的工件上沉积均匀的膜层。
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