转靶式激光分子束外延系统（Spinning-LMBE），采用外延科技独特设计的靶台，具有高度重复的位置稳定性和自旋稳定性。外延科技针对转靶设计的靶托取样器取样容易便捷，可以单独取靶，大大提高设备使用效率。除了靶台与S-LMBE设计上不一样，其它功能都一致。它同样具有非常用户友好的操作设计，高度自动化，操作简单。搭配有原位能量计，实现真正EnergyOnTarget的激光能量测量，大大提高制样的重复性。系统提供一键多层膜和超晶格生长，编制生长序列简洁明了，整个生长过程全自动，无需人工介入。
