第二十届全国电介质物理、材料与应用学术会议暨第二十二届全国电子元件与材料学术大会于2025年4月20日在成都圆满落幕。

本次会议内容包括大会报告、特邀报告、专题研讨、学术交流等，参会人数超过1000人，其中包括中国科学院/工程院院士3人、国家级人才超过100人等。会议的宗旨是增进电介质物理各个领域的专家、学者、学生以及产业界之间的学术交流与合作，推动我国电介质理论研究、新型电介质材料开发、电介质相关元器件应用研究开发的知识创新、技术创新以及产业发展。

在本次会议期间，外延科技同众多高校学者、与会企业，共同就薄膜沉积技术和磁控溅射工艺的最新研究进展、产业化应用等议题展开了深入研讨。与会各方不仅分享了各自领域的前沿成果，更在现场促成了多项合作项目的初步对接。

安徽外延科技有限公司（外延科技）专注于薄膜外延设备的研发和应用。外延科技在真空镀膜技术、工艺、自动化和真空精密机械等方面具有丰富的经验。

未来，外延将继续秉承“创新、品质、服务”的核心理念，不断优化产品，提升服务，以更加卓越的表现回馈每一位客户的信任与支持。外延将持续加大研发投入，聚焦前沿技术，加速科技成果转化，力求为市场带来更加卓越、高效的产品与解决方案。